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等離子表面處理儀

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薄膜制備旋涂機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的薄膜制備旋涂機(jī)，是一種薄膜制備設(shè)備，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：MSC/SC1/SC2廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE反應(yīng)離子刻蝕。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：RIE200plus廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
CIF中試型等離子清洗機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的CIF中試型等離子清洗機(jī)CPC-12，是桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備。具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能，具有較大的腔體尺寸和樣品處理面積，使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：CPC-12廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
CIF粉體等離子清洗機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的CIF粉體等離子清洗機(jī)，是處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī)，可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理粉體樣品的問題。同時(shí)可實(shí)現(xiàn) 常規(guī)等離子清洗。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：CPCP-F/CPCP-Fplus廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
掃描電鏡等離子清洗機(jī)清洗碳?xì)浠衔?/a>

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的掃描電鏡(SEM)等離子清洗機(jī)CIF-SEM采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM 或FIB等腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础Ｅc電鏡配套使用，掃描電鏡等離子清洗機(jī)清洗碳?xì)浠衔铩?/div>
更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：CIF-SEM廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
TEM透射電鏡樣品桿等離子清洗機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的TEM透射電鏡樣品桿等離子清洗機(jī)CIF-TEM采用遠(yuǎn)程離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于 TEM 透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：CIF-TEM廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
賽福CIF紫外臭氧清洗機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的賽福CIF紫外臭氧清洗機(jī)(UVO), 是一種簡單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。紫外臭氧清洗機(jī)采用長壽命UV 石英低壓汞蒸汽格柵燈，樣品臺(tái)高度可調(diào)，可選加熱控溫，以便達(dá)到最佳清洗效果。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：UVO/UVOP/UVOT廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系
等離子刻蝕機(jī)

廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)等離子刻蝕機(jī)，RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE反應(yīng)離子刻蝕。

更新時(shí)間：2025-08-08型號(hào)：RIE200/RIE200plus廠商性質(zhì)：代理商
現(xiàn)在聯(lián)系

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